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J-GLOBAL ID：200903085375803241

電解槽

Inventor： 田中 徳男 ,  佐貫 政夫
Applicant, Patent owner： ホシザキ電機株式会社
Agent (1)： 長谷 照一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993336468
Publication number (International publication number)：1995185548
Application date： Dec. 28, 1993
Publication date： Jul. 25, 1995
Summary：

【要約】【目的】 電解処理効率の良い電解槽を提供すること。【構成】 一対の流入口11a,12aと流出口11b,12bを有するケーシング10と、ケーシングの内部を前記流入口と前記流出口が開口する一対の反応室R1,R2 に二分する隔膜20と、前記各反応室にて対向配設される一対の電極板30を備えて、前記両電極板間に電流を流すことにより前記各流入口から前記両電極板間を通して前記各流出口に流れる被処理水を電解処理するようにした電解槽Aにおいて、ケーシング10を絶縁材料にて形成し各電極板30を同ケーシング10に密着して取付けて、これら各電極板30により前記各流入口の内端が覆われるとともに、前記各流入口に分岐通路(溝11f,12f,11g,12g)を通して連通する流入室R1a,R2aが前記各電極板の下縁に沿って形成されるようにした。

Claim (excerpt)：

下方に一対の流入口を有し上方に一対の流出口を有するケーシングと、このケーシングの内部を前記流入口と前記流出口が開口する一対の反応室に二分するイオン交換可能な隔膜と、前記各反応室にそれぞれ配設されて対向する一対の電極板を備えて、前記両電極板間に電流を流すことにより前記各流入口から前記両電極板間を通して前記各流出口に流れる被処理水を電解処理するようにした電解槽において、前記ケーシングを絶縁材料にて形成し前記各電極板を同ケーシングに密着して取付けて、これら各電極板により前記各流入口の内端が覆われるとともに、前記各流入口に分岐通路を通して連通する流入室が前記各電極板の下縁に沿って形成されるようにしたことを特徴とする電解槽。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-131183
  
• 特開平4-284889
  
• 特開平4-330987