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J-GLOBAL ID:200903085413223459
シリカ系複合酸化物粒子およびその製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002380450
Publication number (International publication number):2003252616
Application date: Dec. 27, 2002
Publication date: Sep. 10, 2003
Summary:
【要約】【課題】 反射防止層や透明な高屈折率樹脂やフィルムの添加剤として極めて有用な、光学的に透明性が高く高屈折率であり、単分散性の極めて高い球状のシリカ系複合酸化物粒子を提供する。【解決手段】 シリコンのアルコキシドを水で部分加水分解する際に、特定量の水で部分加水分解した後にシリコン以外の金属のアルコキシドと混合することによって原料を調製し、触媒を含む含水有機溶媒中で前記原料を加水分解・縮合させて、シリカ以外の金属酸化物の含有率が30〜50モル%であって、粒子径の変動係数が30%以下の球状のシリカ系複合酸化物粒子を得る。
Claim (excerpt):
シリカ以外の金属酸化物の含有率が30〜50モル%であって、粒子径の変動係数が30%以下の球状のシリカ系複合酸化物粒子。
F-Term (17):
4G072AA35
, 4G072AA37
, 4G072BB07
, 4G072GG01
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH14
, 4G072HH30
, 4G072JJ46
, 4G072LL06
, 4G072LL15
, 4G072MM01
, 4G072MM02
, 4G072MM21
, 4G072RR05
, 4G072RR12
, 4G072TT01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
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特公平3-33721号公報
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エポキシ樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-217726
Applicant:徳山曹達株式会社
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エポキシ樹脂組成物及び光半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-191248
Applicant:株式会社トクヤマ
Cited by examiner (5)
-
導電性酸化物粒子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-322121
Applicant:株式会社トクヤマ
-
磁性を有する複合酸化物粒子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-144386
Applicant:株式会社トクヤマ
-
特開昭63-210014
-
無機複合酸化物及びその製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-231744
Applicant:三菱化学株式会社
-
特開昭63-252909
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