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J-GLOBAL ID：200903085425850602

ガスハイドレートの採取装置および採取方法

Inventor：
飯星茂

About 飯星茂


Applicant, Patent owner：
大成建設株式会社

About 大成建設株式会社


Agent (3)： 山口 朔生 ,  河西 祐一 ,  横山 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003318730
Publication number (International publication number)：2005083134
Application date： Sep. 10, 2003
Publication date： Mar. 31, 2005
Summary：
【課題】 ガスハイドレート層から短時間かつ効率良くガスハイドレートを回収するガスハイドレートの回収装置および採取方法を提供すること。【解決手段】 ガスハイドレートを含むガスハイドレート層21よりガスハイドレートを採取する採取装置1であって、ガスハイドレート層21の下層に位置するフリーガス層22まで掘削されたボーリング孔3に嵌入する、一部又は全長に亘って有孔構造の有孔筒4と、ガスハイドレートを気化させる流体を高圧で供給可能な供給手段5と、有孔筒4の内空を上下に二分すると共に、供給手段5を挿通して配置せしめる遮蔽材6と、から構成しており、遮蔽材6をガスハイドレート層21の上層部付近に配置して、流体を供給手段5より有孔筒4の孔41を通じてガスハイドレート層21およびフリーガス層22へ高圧で供給することを可能にしたことを特徴とする、ガスハイドレートの採取装置1である。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
ガスハイドレートを含むガスハイドレート層よりガスハイドレートを採取する採取装置であって、 ガスハイドレート層の下層に位置するフリーガス層まで掘削されたボーリング孔に嵌入する、一部又は全長に亘って有孔構造を呈する有孔筒と、 ガスハイドレートを気化させる流体を高圧で供給可能な供給手段と、 前記有孔筒の内空を上下に二分すると共に、前記供給手段を挿通して配置せしめる遮蔽材と、から構成しており、 前記遮蔽材をガスハイドレート層の上層部付近に配置して、前記流体を前記供給手段より有孔筒の孔を通じてガスハイドレート層およびフリーガス層へ高圧で供給可能にしたことを特徴とする、 ガスハイドレートの採取装置。
IPC (3)：
E21B43/00 ,  C10L3/06 ,  E21C50/00
FI (3)：
E21B43/00 A ,  E21C50/00 ,  C10L3/00 A
F-Term (3)：
2D065FA03 ,  2D065FA21 ,  2D065GA00
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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