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J-GLOBAL ID：200903085446921178

フォトマスク製造用スポットレジスト剥膜機

Inventor： 高橋 博之 ,  千葉 和明 ,  竹岡 大輔
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001057857
Publication number (International publication number)：2002258456
Application date： Mar. 02, 2001
Publication date： Sep. 11, 2002
Summary：

【要約】【課題】レベンソン型位相シフトマスク60の製造において、シフターの深さが不足していることが判明した際に、レジスト膜の形成、電子線描画、現像を繰り返し行うことなく、石英基板1に追加したエッチングを継続して行うことができる、位相差測定用のパターンのみのレジスト膜パターン3’を剥膜するスポットレジスト剥膜機を提供すること。【解決手段】1)開口部を有するフレーム21、X-Yステージ22、ホルダー・ストッパー23で構成されるステージ部20、2)撮像・コントローラ部30、3)コーン状カバー41、薬液ノズル42、支持具43で構成される薬液噴射部40、4)薬液供給・回収部50を少なくとも具備すること。

Claim (excerpt)：

フォトマスクの製造にて用いるレジスト剥膜機において、1)上部中央に開口部を有するフレーム、該フレーム上に設けられた中央に開口部を有するX-Yステージ、該X-Yステージ上でフォトマスクの四隅を保持する位置に設けられたフォトマスクを保持固定するホルダー・ストッパーで構成されるステージ部、2)該X-Yステージの上方に設けられた撮像カメラ、及びモニタ・コントローラで構成される撮像・コントローラ部、3)該X-Yステージの下方、該撮像カメラの真下位置に設けられたコーン状カバー、及び薬液ノズル、支持具で構成される薬液噴射部、4)該薬液ノズルに薬液を供給するチューブ、バルブ、薬液タンク、薬液受皿で構成される薬液供給・回収部、を少なくとも具備することを特徴とするフォトマスク製造用スポットレジスト剥膜機。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 M ,  G03F 1/08 T ,  H01L 21/30 502 P

F-Term (3)：

2H095BB03 ,  2H095BD32 ,  2H095BD40