Pat

J-GLOBAL ID：200903085473370086

薄膜の膜厚測定方法および測定装置

Inventor： 青崎 耕 ,  小寺 省吾 ,  田中 良樹 ,  白 基成 ,  鵜澤 秀樹
Applicant, Patent owner： 旭硝子エンジニアリング株式会社 ,  旭硝子株式会社
Agent (1)： 泉名 謙治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994105752
Publication number (International publication number)：1995311020
Application date： May. 19, 1994
Publication date： Nov. 28, 1995
Summary：

【要約】【構成】光源からの光が薄膜上で反射した反射光を光電変換素子によって少なくとも2色の電気信号に変換後、その電気信号を膜厚に換算することにより薄膜の膜厚を測定することを特徴とする薄膜の膜厚測定方法および(a)光源、(b)光源からの光が薄膜上で反射した反射光を光電変換素子に結像させる光学系、(c)光電変換素子および(d)電気信号処理部からなる薄膜の膜厚測定装置。【効果】製膜中のあるいは製膜後の薄膜の膜厚を、基材や塗工物の光吸収の有無にかかわらず高速で測定できる。

Claim (excerpt)：

薄膜の膜厚を測定する方法において、光源からの光が薄膜上で反射した反射光を光電変換素子によって少なくとも2色の電気信号に変換後、その電気信号を膜厚に換算することにより薄膜の膜厚を測定することを特徴とする薄膜の膜厚測定方法。

IPC (2)：

G01B 11/06 ,  C23C 14/54

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭60-169703