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J-GLOBAL ID：200903085475878095

感光性樹脂組成物積層体、レジストパターンの製造法、基板、プリント配線板の製造法、プリント配線板及び機器

Inventor： 川口 卓 ,  木村 仁子
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993029512
Publication number (International publication number)：1994242611
Application date： Feb. 19, 1993
Publication date： Sep. 02, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 高解像度レジストハターンを得ることができる感光性樹脂組成物積層体を提供する。【構成】 支持体(a)上に、中間層(b)、感光性樹脂層(c)、場合によって保護フィルム(d)を順次積層してなる感光性樹脂組成物積層体であり、中間層(b)が、オレフィンを共重合したポリビニルアルコール等、から選ばれる少なくとも1種の化合物を主成分とし、中間層(b)と感光性樹脂層(c)が、希アルカリ水溶液で現像可能である。この感光性樹脂組成物積層体を保護フィルム(d)をはがして基材面に感光性樹脂層(c)が密着するようにしてラミネートし、支持体(a)をはがし、露出した中間層(b)上にパターンマスクを介して活性光線を照射し、その後、希アルカリ水溶液で中間層(b)及び感光性樹脂層(c)の不要部分を溶解又は分散除去し、現像することによりレジストパターンを製造する。

Claim (excerpt)：

支持体(a)上に、中間層(b)、感光性樹脂層(c)、場合によって保護フィルム(d)を順次積層してなる感光性樹脂組成物積層体であり、中間層(b)が、オレフィンを1〜20モル%共重合したポリビニルアルコール、重合度4000以上のポリエチレンオキシド、カルボキシル基含有アクリル樹脂及び二塩基酸とオレフィンの共重合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を主成分とし、その厚みが1〜10μmであり、中間層(b)と感光性樹脂層(c)が、希アルカリ水溶液で現像可能である感光性樹脂組成物積層体。

IPC (6)：

G03F 7/11 503 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/40 521 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭59-137948
  
• 特開昭47-046102
  
• 特開昭46-002121
  
• 特開平1-282543