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J-GLOBAL ID：200903085483737948

低汚染型クーリング性被膜積層構造

Inventor：
尾上 誠一

About 尾上 誠一


Applicant, Patent owner：
エスケー化研株式会社

About エスケー化研株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000289393
Publication number (International publication number)：2002096415
Application date： Sep. 22, 2000
Publication date： Apr. 02, 2002
Summary：
【要約】【課題】特別な設備を必要とせず、人工的な水の供給や散水が不要で、簡便にクーリング効果が得られ、さらに、そのクーリング効果が長期に持続するような積層被膜を提供する。【解決手段】水蒸気吸脱着性がヒステリシス特性を有する吸放湿層の上に、表面の水に対する接触角が70°以下であり、水蒸気透過性を有する透湿層を積層する。吸放湿層としては、(a)温度20±2°C、相対湿度45±5%における吸湿率10%以上である吸放湿性高分子バインダー、(b)水蒸気吸脱着性がヒステリシス特性を示す多孔質粉体を含有することが望ましい。透湿層は、表面の水に対する接触角70°以下、透湿度40g/m2 ・24H以上の被膜であることが望ましい。
Claim (excerpt)：
水蒸気吸脱着性がヒステリシス特性を有する吸放湿層の上に、表面の水に対する接触角が70°以下であり、水蒸気透過性を有する透湿層を積層することを特徴とするクーリング性被膜積層構造。
IPC (6)：
B32B 7/02 ,  B05D 5/00 ,  B05D 7/24 302 ,  B32B 5/18 ,  E04B 1/64 ,  E04B 1/74
FI (7)：
B32B 7/02 ,  B05D 5/00 H ,  B05D 7/24 302 Y ,  B32B 5/18 ,  E04B 1/64 D ,  E04B 1/74 H ,  E04B 1/74 T
F-Term (57)：
2E001DB03 ,  2E001DB04 ,  2E001DD01 ,  2E001DD04 ,  2E001DD12 ,  2E001DD18 ,  2E001DH23 ,  2E001FA04 ,  2E001FA16 ,  2E001FA18 ,  2E001GA06 ,  2E001GA24 ,  2E001GA42 ,  2E001HA02 ,  2E001HA04 ,  2E001HA14 ,  2E001HB01 ,  2E001HB04 ,  2E001HD11 ,  2E001HF04 ,  2E001HF05 ,  2E001JA06 ,  2E001JD02 ,  2E001LA16 ,  2E001MA01 ,  4D075CA40 ,  4D075DC03 ,  4D075DC05 ,  4D075EB42 ,  4F100AA03 ,  4F100AA20 ,  4F100AA21 ,  4F100AB10 ,  4F100AH06B ,  4F100AK01A ,  4F100AK01B ,  4F100AK25 ,  4F100AK51 ,  4F100AK52B ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100CA02A ,  4F100DE01A ,  4F100DJ00A ,  4F100EH46 ,  4F100GB07 ,  4F100GB90 ,  4F100JD04 ,  4F100JD04B ,  4F100JD15 ,  4F100JD15A ,  4F100JD16 ,  4F100JD16A ,  4F100JL06 ,  4F100JM01A ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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