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J-GLOBAL ID:200903085491820757

プラズマ装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 田澤 博昭 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993315565
Publication number (International publication number):1995099351
Application date: Dec. 15, 1993
Publication date: Apr. 11, 1995
Summary:
【要約】【目的】 電源周波数の高低によらず、放電空間に安定的に放電プラズマを発生させる。【構成】 給電電極1,2と金属パイプ(金属体)13,23を交流的に結合するキャパシタをキャパシタンスCとした場合、これと並列にインダクタ100を挿入し、そのインダクタンスLを1/{(2πf)2 C}とすることで、キャパシタンスCの影響を打ち消すようにする。
Claim (excerpt):
給電電極に周波数fの交流電圧を印加することにより、放電空間で放電プラズマを生成するプラズマ装置において、前記給電電極とその近傍の電圧の印加されない金属体とを交流的に結合するキャパシタンスCのキャパシタに対し、並列に挿入されたインダクタンスL〔=1/{(2πf)2 C}〕のインダクタを備えたことを特徴とするプラズマ装置。
IPC (5):
H01S 3/038 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/0971 ,  H01S 3/0975 ,  H05H 1/46
FI (3):
H01S 3/03 B ,  H01S 3/097 D ,  H01S 3/097 B

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