Pat
J-GLOBAL ID：200903085508699710
高分子量ポリマー被膜形成方法
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
頓宮 孝一 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992249689
Publication number (International publication number)：1994298934
Application date： Sep. 18, 1992
Publication date： Oct. 25, 1994
Summary：
【要約】【目的】 本発明の目的は、反応剤が固体状態の形で、ブロック解除されたルイス塩基をルイス酸オリゴマーと共に鎖を延長することによって、高分子量のポリマーからなる固体状態被膜を形成するための、固体状態鎖延長法を提供することである。【構成】 本発明の1実施例によれば、固体状態被膜の諸領域を選択的に露光することによって、ネガティブ・レジストを調製する。ルイス塩基の露光領域を適当なブロック解除手段によってブロック解除する。ルイス酸オリゴマーとブロック解除されたルイス塩基が露光領域で鎖延長する。被膜を現像すると、未重合の反応剤が除去される。任意選択として、放射線で架橋させるとき、ルイス塩基のブロック解除前にルイス酸オリゴマーが互いに架橋して、ネガティブ・レジストを形成する。架橋したオリゴマーは、後でブロック解除される塩基と重合して、高分子量のポリマー被膜をもたらす。
Claim (excerpt)：
ルイス酸オリゴマーと保護されたルイス塩基とからなる固体状態の被膜を基板上に配設するステップと、上記ルイス塩基をブロック解除するステップと、上記ルイス酸オリゴマーを上記のブロック解除されたルイス塩基と共に固体状態で鎖延長して、高分子量のポリマー被膜を形成するステップとを含む、固体状態鎖延長法。
IPC (3)：
C08G 73/10 NTF
, G03F 7/004 503
, G03F 7/038
Cited by examiner (6)
Show all
Return to Previous Page
