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J-GLOBAL ID：200903085517899780
X線発生装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996327095
Publication number (International publication number)：1998170699
Application date： Dec. 06, 1996
Publication date： Jun. 26, 1998
Summary：
【要約】【課題】 本発明は、小型で、高い指向性を有し、単色かつ可変エネルギーのX線を発生する装置を提供する。【解決手段】 本発明のX線発生装置は、所望の間隔で薄膜を積層した標的2に高エネルギーの電子を照射して干渉性遷移放射によりX線を発生させるX線発生装置において、前記標的2からX線放射方向側に、X線発生軸に一致する中心軸を持ち内側が反射面となっている円筒形の反射鏡3と、反射鏡3からX線放射方向側で且つX線発生軸上にピンホール4とを設置したことを特徴とする。上記特徴において、前記標的2と前記ピンホール4との間隔を自在に調整できる機構を有することが好ましい。また、前記ピンホール4を除去すると共に、前記円筒形の反射鏡3に代えてトロイダル円筒形の反射鏡を用いても構わない。
Claim (excerpt)：
所望の間隔で薄膜を積層した標的に高エネルギーの電子を照射して干渉性遷移放射によりX線を発生させるX線発生装置において、前記標的からX線放射方向側に、X線発生軸に一致する中心軸を持ち内側が反射面となっている円筒形の反射鏡と、前記反射鏡からX線放射方向側で且つX線発生軸上にピンホールとを、設置したことを特徴とするX線発生装置。
IPC (2)：
FI (2)：
G21K 5/02 X
, G21K 1/06 A
