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J-GLOBAL ID：200903085535159522

プラズマ発生装置及び方法

Inventor： 碓井 薫
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993307908
Publication number (International publication number)：1995161493
Application date： Dec. 08, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：

【要約】【目的】 プラズマ発生装置に関し、容量型結合方式及び誘導型結合方式の欠点を補い、簡単で安価な構成で、且つ、低電力で、比較的容易に高密度で均一性の高い異方性プラズマを高真空下で発生し維持することのできるプラズマ発生装置を提供することを目的とする。【構成】 真空処理室(1)と、該真空処理室(1)の回りに巻かれた誘導結合用コイル(2)と、該真空処理室(1)で該誘導結合用コイル(2)の中心軸上に中心を持ち、且つ、中心軸に対して垂直、且つ、互いに平行に配置された一対の平板電極(3,4)と、高周波電源(6)と、該高周波電源(6)と接続された高周波整合器(5)とを備え、該高周波整合器(5)は、該誘導結合用コイル(2)及び該一対の平板電極(3,4)のうち少なくとも一方と接続されており、該一対の平板電極(3,4)及び該誘導結合用コイル(2)は夫々容量結合及び誘導結合を同時に行って該真空処理室(1)内で容量型プラズマ及び誘導結合型プラズマを発生するように構成する。

Claim (excerpt)：

真空処理室(1)と、該真空処理室(1)の回りに巻かれた誘導結合用コイル(2)と、該真空処理室(1)で該誘導結合用コイル(2)の中心軸上に中心を持ち、且つ、中心軸に対して垂直、且つ、互いに平行に配置された一対の平板電極(3,4)と、高周波電源(6)と、該高周波電源(6)と接続された高周波整合器(5)とを備え、該高周波整合器(5)は、該誘導結合用コイル(2)及び該一対の平板電極(3,4)のうち少なくとも一方と接続されており、該一対の平板電極(3,4)及び該誘導結合用コイル(2)は夫々容量結合及び誘導結合を同時に行って該真空処理室(1)内で容量型プラズマ及び誘導結合型プラズマを発生する、プラズマ発生装置。

IPC (4)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (2)：

H01L 21/302 C ,  H01L 21/302 B