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J-GLOBAL ID：200903085539193318

化学増幅型レジストおよびこれを用いた露光用マスクの製造方法

Inventor： 杉原 真児 ,  池田 隆洋 ,  伊藤 正光
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 木村 高久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991234883
Publication number (International publication number)：1993072737
Application date： Sep. 13, 1991
Publication date： Mar. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明の第1は、高感度のレジストを提供することを目的とする。 本発明の第2は、高精度のエネルギー吸収体パターンを形成することを目的とする。【構成】 本発明では、化学増幅型のレジストに中性塩を添加したものをレジストとして用いるようにしている。

Claim (excerpt)：

樹脂と、架橋剤と、酸発生剤と、中性塩とを含有したことを特徴とする化学増幅型レジスト。

IPC (6)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/027