パターン形成材料及びパターン形成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：前田弘 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000117688
Publication number (International publication number)：2001305737
Application date： Apr. 19, 2000
Publication date： Nov. 02, 2001
Summary：

【要約】【課題】露光光として1nm帯〜30nm帯又は110nm帯〜180nm帯の波長を持つ露光光を用いてレジストパターンを形成する場合に、スカムを殆ど発生させることなく、良好なパターン形状を有するレジストパターンが得られるようにする。【解決方法】パターン形成材料は、[化1]の一般式で表わされるシロキサン化合物(但し、R1 は、同種又は異種であって、アルキル化合物、エステル化合物、エーテル化合物、スルフォン化合物、スルフォニル化合物又は芳香族化合物である。)を含むベース樹脂を有している。【化1】

Claim (excerpt)：

[化1]の一般式で表わされるシロキサン化合物(但し、R1は、同種又は異種であって、アルキル化合物、エステル化合物、エーテル化合物、スルフォン化合物、スルフォニル化合物又は芳香族化合物である。)を含むベース樹脂を有することを特徴とするパターン形成材料。【化1】

IPC (10)：

G03F 7/039 601 , C08G 77/14 , C08G 77/28 , C08G 77/48 , C08L 83/06 , C08L 83/08 , C08L 83/14 , G03F 7/075 511 , G03F 7/20 502 , H01L 21/027

FI (11)：

G03F 7/039 601 , C08G 77/14 , C08G 77/28 , C08G 77/48 , C08L 83/06 , C08L 83/08 , C08L 83/14 , G03F 7/075 511 , G03F 7/20 502 , H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 515 B

F-Term (35)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA09 , 2H025AA10 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB32 , 2H025CB33 , 2H025CB41 , 2H097BA06 , 2H097CA13 , 2H097FA03 , 2H097JA03 , 2H097LA10 , 4J002CP031 , 4J002CP051 , 4J002CP101 , 4J002CP191 , 4J002EV296 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J035BA11 , 4J035BA12 , 4J035BA15 , 4J035CA072 , 4J035CA262 , 4J035HA01 , 4J035LB16 , 5F046CA04 , 5F046CA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

シリコーン樹脂及びこれを含有する感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-089441 Applicant：新日鐵化学株式会社
ケイ素含有感光性樹脂及びこれを含有する組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-122672 Applicant：新日鐵化学株式会社

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