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J-GLOBAL ID:200903085583930320

X線装置と該装置を用いた評価解析方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 梅田 勝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993037917
Publication number (International publication number):1994249803
Application date: Feb. 26, 1993
Publication date: Sep. 09, 1994
Summary:
【要約】【目的】 非破壊、非接触、かつ三次元の評価解析を行うX線装置およびその評価解析方法を提供する。【構成】 X線発生装置と、少なくとも1枚以上の単結晶材料からなるX線集光器と、直交した2方向のあおり機構および該あおり機構に連結した3方向の水平移動機構および該水平移動機構と少なくとも試料に対して該あおり機構より外側に連結した試料面内回転機構を備えた試料台、さらに該試料台のアームを取り付けた3方向の走査回転機構とを備えたゴニオメータと、少なくともX線を検出する検出器、計数器とを備えた計数系と、制御、計測、解析を行うためのコンピュータとを備えたX線装置。およびその装置を用いることにより、非対称反射の回折条件を満たしながら、該試料面内回転テーブルを連続的に面内回転をさせ、回折X線または蛍光X線の侵入深さを連続的に計測することを特徴とする回折X線または蛍光X線の評価解析方法。
Claim (excerpt):
X線発生装置と、少なくとも1枚以上の単結晶材料からなるX線集光器と、直交した2方向のあおり機構および該あおり機構に連結した3方向の水平移動機構および該水平移動機構と少なくとも試料に対して該あおり機構より外側に連結した試料面内回転機構とを備えた試料台、さらに該試料台のアームを取り付けた3方向の走査回転機構と備えたゴニオメータと、少なくともX線を検出する検出器、計数器とを備えた計数系と、制御、計測、解析を行うためのコンピュータとを備えたX線装置。
IPC (2):
G01N 23/207 ,  G01N 23/223
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特公昭55-018128
  • 特開昭61-293526

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