Pat
J-GLOBAL ID：200903085637739205
欠陥レビューシステム、欠陥レビュー方法、及び電子装置の製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (7)：
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 川又 澄雄
, 中村 友之
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005062479
Publication number (International publication number)：2006245485
Application date： Mar. 07, 2005
Publication date： Sep. 14, 2006
Summary：
【課題】 検出欠陥中の欠陥原因を高速且つ高効率でレビュー可能で、ユーザの希望条件に応じてレビュー目的を選択可能な自由度の高い欠陥レビューシステム、欠陥レビュー方法、及び電子装置の製造方法を提供する。【解決手段】 複数の処理中間体の中にそれぞれ存在する欠陥を、処理中間体毎に欠陥の大きさにより分類した欠陥情報を記憶する欠陥情報記憶部21と、欠陥情報の解析条件を記憶する条件記憶部20と、欠陥情報及び解析条件を読み出して欠陥情報を解析する解析部112と、解析の結果と欠陥情報を用いて処理中間体の処理工程に起因するシステマティック異常量を計算する異常量計算部113と、計算の結果を用いて複数の処理中間体毎のシステマティック異常量を分類する分類部114と、分類の結果を用いて複数の処理中間体の中からレビュー対象となる処理中間体を選択するレビュー対象選択部115とを備える。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
複数の処理中間体の中にそれぞれ存在する欠陥を、前記処理中間体毎に前記欠陥の大きさにより分類した欠陥情報を記憶する欠陥情報記憶部と、
前記欠陥情報を解析するための解析条件を記憶する条件記憶部と、
前記欠陥情報及び前記解析条件を読み出して前記欠陥情報を解析する解析部と、
前記解析の結果と前記欠陥情報記憶部から読み出した前記欠陥情報を用いて、前記処理中間体の処理工程に起因するシステマティック異常量を計算する異常量計算部と、
前記計算の結果を用いて、前記複数の処理中間体毎の前記システマティック異常量を分類する分類部と、
前記分類の結果を用いて、前記複数の処理中間体の中からレビュー対象となる処理中間体を選択するレビュー対象選択部
とを備えることを特徴とする欠陥レビューシステム。
IPC (3)：
H01L 21/66
, G01N 21/956
, H01L 21/02
H01L21/66 J
, G01N21/956 A
, H01L21/02 Z
2G051AA51
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051EC01
, 2G051EC02
, 4M106AA01
, 4M106CA38
, 4M106CA41
, 4M106DB21
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
