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J-GLOBAL ID:200903085656918021

ニッケル系めっき液中へのニッケル原料の供給方法およびその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小林 英一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994062316
Publication number (International publication number):1995268696
Application date: Mar. 31, 1994
Publication date: Oct. 17, 1995
Summary:
【要約】【目的】 金属ニッケル粒を直接めっき液中に補給し、溶解させる。【構成】 溶解槽内のめっき液の温度を75〜100 °Cの範囲に制御するとともに、溶解槽内のめっき液の硫酸濃度が10%を越えない範囲で溶解槽のめっき液内に硫酸水溶液を添加し、粒径が 0.3mm以下である粒状あるいは粉状の金属ニッケルをこの溶解槽内に直接投入して溶解させる。
Claim (excerpt):
溶解槽内のめっき液の温度を75〜100 °Cの範囲に制御し、粒径が 0.3mm以下である粒状あるいは粉状の金属ニッケルをこの溶解槽内のめっき液内に直接投入して溶解させることを特徴とするニッケル系めっき液中へのニッケル原料の供給方法。
IPC (2):
C25D 21/14 ,  C25D 3/12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平1-234598

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