ライブラリ作成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：藤元亮輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003172628
Publication number (International publication number)：2005009941
Application date： Jun. 17, 2003
Publication date： Jan. 13, 2005
Summary：

【課題】周期的な凹凸形状(例えば、ライン&スペース等)を有する構造のパターンの断面形状を、そのパターンを破壊することなくかつパターンを構成する物質の光学定数の変化に影響されることなく、高スループットかつ高精度に測定する断面形状測定に用いられるライブラリ作成方法を提供すること。【解決手段】被測定物としての周期的パターン6の断面形状と、周期的パターン6に入射する入射光4aの入射条件(入射角度、波長)と、周期的パターン6を構成する物質M2(レジスト)の光学定数(屈折率、吸収係数)とを変化させつつ周期的パターン6からの反射光4bの複数の光束状態(強度、位相)を計算により求めるステップと、複数の光束状態とそれに対応する光学定数とをそれぞれ関連付けて複数のライブラリL1,L2,...,Lkとするステップとを有することを特徴とするライブラリ作成方法。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

被測定物としての周期的パターンの断面形状と、前記周期的パターンに入射する入射光の入射条件と、前記周期的パターンを構成する物質の光学定数とを変化させつつ該周期的パターンからの反射光の光束状態を計算により複数求めるステップと、該複数の光束状態とそれに対応する前記光学定数とをそれぞれ関連付けて複数のライブラリとするステップとを有することを特徴とするライブラリ作成方法。

IPC (4)：

G01B11/24 , G01J4/04 , G03F7/20 , H01L21/027

FI (4)：

G01B11/24 F , G01J4/04 Z , G03F7/20 521 , H01L21/30 502V

F-Term (11)：

2F065AA30 , 2F065AA52 , 2F065BB02 , 2F065BB17 , 2F065CC01 , 2F065CC20 , 2F065DD06 , 2F065FF44 , 2F065FF49 , 2F065HH12 , 2F065JJ08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-060953 Applicant：東京エレクトロン株式会社
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