Pat

J-GLOBAL ID：200903085676629794

イオンビーム遮断装置

Inventor： 小沢 顕 ,  吉田 敦 ,  谷畑 勇夫 ,  高橋 豊 ,  堀口 勝重 ,  森田 弘明
Applicant, Patent owner： 理化学研究所 ,  堀口 勝重 ,  森田 弘明
Agent (1)： 堀田 実
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000322056
Publication number (International publication number)：2002131485
Application date： Oct. 23, 2000
Publication date： May. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】 高エネルギーイオンビームを損傷を受けることなく長時間遮断することができ、遮断部の局部過熱が少なく、かつ残留放射能の少ないイオンビーム遮断装置を提供する。【解決手段】 真空チャンバー11内を通過するイオンビームを遮断するためのビーム遮断ターゲット12と、イオンビームの通過経路内にターゲットを出没させるように真空チャンバーの外側からターゲットを往復動させるターゲット往復動装置14と、ターゲットを真空チャンバーの外側からイオンビームと交叉する軸心を中心に回転させるターゲット回転装置16とを備える。イオンビームの遮断時に、イオンビーム遮断位置が許容温度になるようにターゲットを連続回転させる。

Claim (excerpt)：

真空チャンバー(11)内を通過するイオンビームを遮断するためのビーム遮断ターゲット(12)と、イオンビームの通過経路内にターゲットを出没させるように真空チャンバーの外側からターゲットを往復動させるターゲット往復動装置(14)と、ターゲットを真空チャンバーの外側からイオンビームと交叉する軸心を中心に回転させるターゲット回転装置(16)とを備え、イオンビームの遮断時に、イオンビーム遮断位置が許容温度になるようにターゲットを連続回転させる、ことを特徴とするイオンビーム遮断装置。

IPC (2)：

G21K 1/04 ,  H05H 7/00

FI (2)：

G21K 1/04 S ,  H05H 7/00

F-Term (7)：

2G085BA16 ,  2G085BD02 ,  2G085BD04 ,  2G085BE02 ,  2G085BE03 ,  2G085BE06 ,  2G085EA01