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J-GLOBAL ID：200903085696190500

自己整合された位相シフトマスク及びその製造方法

Inventor： マルコム・エイ・ヤング
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 頓宮 孝一 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992344439
Publication number (International publication number)：1993265186
Application date： Dec. 24, 1992
Publication date： Oct. 15, 1993
Summary：

【要約】【目的】 不透明マスク・パターンの縁部に隣接した位相シフト材料の自己整合スペーサを備えた位相シフトマスク、ならびにこれを作成する方法を開示する。【構成】 本発明の方法はパターン化された不透明層13を有する透明マスク基板11上に適切な位相シフト材料のブランケット層を付着し、次いで、位相シフト層を不透明層13と基板11をエッチ・ストップとして使用して、反応性イオン・エッチング(RIE)チェンバ内で異方性ブランケット・エッチングする。エッチング後、残っている位相シフト材料はほぼ1/4円筒形のスペーサ・パターン15を形成する。スペーサ・パターンは不透明マスク・パターン13の縁部に自己整合される。位相シフト材料の厚さ及び屈折率は、完成したマスクにおいて、効果的であることが実証された位相シフトの範囲である0.67πラジアン(120 ゚)ないしπラジアン(180 ゚)の位相シフトをもたらすようなものが選択される。

Claim (excerpt)：

自己整合位相シフトマスクを製造する方法であって、露光放射線に対して透明な基板の水平表面の選択された領域上に、前記露光放射線に対して不透明な材料の、水平表面及び垂直縁部を有するパターンを設ける工程と、前記不透明パターンの垂直縁部並びに水平表面及び前記透明基板の水平表面上に位相シフト材料を付着することによって、前記不透明パターンの垂直縁部に位相シフト材料のスペーサを形成する工程とを有し、前記スペーサの厚さは、前記スペーサを通過する前記露光放射線が前記マスクの他の領域を通過する前記露光放射線に対して位相シフトずれを生じさせるようなものである、前記方法。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W