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J-GLOBAL ID：200903085702321582

熱現像写真材料

Inventor： 浅沼 直樹 ,  石坂 達也 ,  平野 茂夫
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 石井 陽一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997164989
Publication number (International publication number)：1998339930
Application date： Jun. 06, 1997
Publication date： Dec. 22, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 生保存性、画像保存安定性に優れた熱現像感光材料を提供する。【解決手段】 一般式(I)で表されるフタラジン誘導体化合物を含有させる。[一般式(I)中、Gは以下の一般式(II-a)、(II-b)、(II-c)、(II-d)、および(II-e)のうちのいずれかで表される1価の置換基を表し、mは1以上4以下の整数を表す。m≧2の場合、複数のGはそれぞれ同一であっても異なっていても良い。また、複数のGが隣接する場合にはヘテロ環を形成していても良い。]

Claim (excerpt)：

(a)還元可能な銀塩、(b)還元剤、(c)バインダーおよび(d)一般式(I)で表される化合物を少なくとも一種を含有することを特徴とする熱現像写真材料。【化1】[一般式(I)中、Gは以下の一般式(II-a)、(II-b)、(II-c)、(II-d)、および(II-e)のうちのいずれかで表される1価の置換基を表し、mは1以上4以下の整数を表す。m≧2の場合、複数のGはそれぞれ同一であっても異なっていても良い。また、複数のGが隣接する場合にはヘテロ環を形成していても良い。]【化2】[一般式(II-a)中、Xは-C(=O)-、または-SO2-を表す。nは0または1を表す。R1は水素原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、またはヘテロ環基を表す。R2は水素原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、またはアリールチオ基を表す。]【化3】[一般式(II-b)中、Yは脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヒドロキシ基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはヘテロ環基を表す。]【化4】[一般式(II-c)中、Zは脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヒドロキシ基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはヘテロ環基を表す。]【化5】[一般式(II-d)中、Vは水素原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロ環基、アシル基またはカルバモイル基を表す。]【化6】[一般式(II-e)中、Wは水素原子、アシル基またはカルバモイル基を表す。]