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J-GLOBAL ID：200903085759884443
熱プラズマ発生方法及び製膜装置並びにディスプレイ装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992298288
Publication number (International publication number)：1994150830
Application date： Nov. 09, 1992
Publication date： May. 31, 1994
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、プラズマ溶射あるいは熱プラズマCVD等で製膜する場合の熱プラズマ発生法と装置に及びそれを用いたディスプレイ装置に関するものであり、特に大面積基板へ均一に高スループットで製膜でき、なお且つ機能性膜を精度良く製膜できる装置と方法に関するものである。【構成】 中心に粉末あるいはガス供給経路を設け且つ内部に冷却手段を具備した奥行き方向に長い陰極15と、その外周をプラズマ作動ガス空間19で取り囲むと共に、陰極15先端部よりも下流部では断面が偏平スリット形状なプラズマ噴出口を形成する陽極21とを具備し、前記陰極15先端部の中心より作動ガス空間19側とプラズマ噴出口22の陽極部間に発生するアーク柱26に対して略垂直に作用する磁界発生用エンドレス形状磁石28とを設けたものである。
Claim (excerpt)：
奥行き方向に長く且つ中心の長手方向開口部を有する陰極先端部と、プラズマ作動ガス通路空間を隔てて陰極を取り囲むとともに、陰極先端部よりも下流に設けた断面が偏平スリット形状なプラズマ噴出口を形成する陽極部との間でアークを発生させ、磁石によって前記アーク柱に対して略垂直の磁界を作用せしめ、前記発生アークを前記陰極先端部と陽極部上で周回往復移動させながら、偏平スリット状のアークプラズマをプラズマ噴出口より発生させる熱プラズマ発生方法。
IPC (2)：
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