Pat
J-GLOBAL ID:200903085788555530
ポジ型感放射線性組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000318057
Publication number (International publication number):2001249460
Application date: Oct. 18, 2000
Publication date: Sep. 14, 2001
Summary:
【要約】【課題】 疎密依存性と露光マージンが優れるポジ型感放射線性組成物を提供すること。【解決手段】 特定のアセタール構造を有する酸分解性基を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、前記酸分解性基の分解反応に寄与する化合物のうち少なくとも1種、活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、前記酸分解性基の分解反応に寄与しない化合物のうち少なくとも1種、界面活性剤、溶剤を含有するボジ型感放射線性組成物。
Claim (excerpt):
(a)下記一般式(I)で示される酸分解性基を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(b-1)活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、前記酸分解性基の分解反応に寄与する化合物のうち少なくとも1種、(b-2)活性光線又は放射線の照射により酸を発生し、前記酸分解性基の分解反応に寄与しない化合物のうち少なくとも1種、(c)界面活性剤、及び(d)溶剤を含有することを特徴とするボジ型感放射線性組成物。【化1】一般式(I)中、R1は炭素数1〜4個のアルキル基を表す。Wは、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子及び珪素原子からなる群から選択される少なくとも1種の原子と少なくとも1つの炭素原子を含有する有機基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、置換あるいは無置換のアリール基、又は置換あるいは無置換の環状アルキル基を表す。nは、1〜4の整数を表す。
IPC (7):
G03F 7/039 601
, C08K 5/00
, C08L101/06
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/004 504
, H01L 21/027
FI (7):
G03F 7/039 601
, C08K 5/00
, C08L101/06
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503 Z
, G03F 7/004 504
, H01L 21/30 502 R
F-Term (32):
2H025AA00
, 2H025AB03
, 2H025AB15
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BE08
, 2H025BG00
, 2H025CC03
, 2H025CC04
, 2H025CC20
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4J002AA051
, 4J002BC121
, 4J002BG021
, 4J002BG091
, 4J002BG121
, 4J002CH052
, 4J002EB106
, 4J002EH057
, 4J002EU186
, 4J002EU216
, 4J002EV226
, 4J002EV296
, 4J002FD206
, 4J002FD312
, 4J002FD317
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
-
高分子化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-053361
Applicant:信越化学工業株式会社
-
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-229160
Applicant:ジェイエスアール株式会社
-
パターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-095681
Applicant:松下電子工業株式会社, クラリアントジャパン株式会社
-
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-333145
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
放射線感応性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-269579
Applicant:ヘキストジャパン株式会社
-
パターン形成用レジストおよびパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-100310
Applicant:株式会社東芝
-
スルホニウム塩化合物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-369910
Applicant:和光純薬工業株式会社
-
光酸発生剤のブレンドを含むフォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-042690
Applicant:シップレーカンパニーエルエルシー
Show all
Return to Previous Page