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J-GLOBAL ID：200903085814236618

マイクロリソグラフィー用フォトレジスト組成物における溶解抑制剤

Inventor： ラリー エル ベルガー ,  ジェラルド フェルドマン ,  ヴィアチェスラフ アレクサンドロビッチ ペトロフ ,  フランク エル.シャド ザ サード ,  アンドリュー エフ.フェイリング ,  フレドリック クラウス ザムステグ ジュニア
Applicant, Patent owner： イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
Agent (2)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002534922
Publication number (International publication number)：2004523774
Application date： Oct. 12, 2001
Publication date： Aug. 05, 2004
Summary：

本発明は、ポリマー結合剤と、光活性成分と、構造-C(Rf)(Rf’)OR(式中、RfおよびRf’は、1〜約10の炭素原子を有する同一または異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは一緒になって(CF2)aであり、aは2〜約10の範囲の整数であり、そしてRは水素原子または酸不安定性保護基である。)を有する少なくとも1つの官能基を含有するパラフィン系またはシクロパラフィン系化合物を含む、少なくとも1つの溶解抑制剤とを含むフォトレジスト組成物に関する。典型的に、溶解抑制剤は157nmの波長において約4.0μm未満の吸収係数を有する。

Claim (excerpt)：

(a)ポリマー結合剤と、 (b)光活性成分と、 (c)次の構造、 -C(Rf)(Rf’)OR (式中、RfおよびRf’は、1〜約10の炭素原子を有する同一または異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは一緒になって(CF2)aであり、aは2〜約10の範囲の整数であり、そしてRは水素原子または酸不安定性保護基である。)を有する少なくとも1つの官能基を含有するパラフィン系またはシクロパラフィン系化合物を含む少なくとも1つの溶解抑制剤と を含むことを特徴とするフォトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (3)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

F-Term (12)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-108824   Applicant：ジェイエスアール株式会社, インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
• ネガ型含フッ素レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-281167   Applicant：旭硝子株式会社
• 高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-266846   Applicant：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社