感刺激性組成物、化合物及び該感刺激性組成物を用いたパターン形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 濱田百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004028944
Publication number (International publication number)：2005055864
Application date： Feb. 05, 2004
Publication date： Mar. 03, 2005
Summary：

【課題】高感度で、良好なプロファイルを示す感刺激性組成物、また、200nm以下、特にF2レーザー光(157nm)の露光波長において高感度で、良好なプロファイルを示す感光性組成物、更には、これらの組成物を提供すべく、外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する新規な化合物(A)を提供する。【解決手段】外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する下記の一般式(I)で表される特定構造の化合物(A)を含有する感刺激性組成物、及び特定構造の化合物(A)。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする感刺激性組成物。

IPC (2)：

G03F7/004 , H01L21/027

FI (2)：

G03F7/004 503A , H01L21/30 502R

F-Term (14)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB03 , 2H025AB14 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-098796 Applicant：東京応化工業株式会社
スルホニウム塩化合物、フォトレジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-332968 Applicant：日本電気株式会社

Cited by examiner (12)

ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-250452 Applicant：富士写真フイルム株式会社
重合性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-067938 Applicant：東洋インキ製造株式会社
光酸発生化合物、及びポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-057067 Applicant：富士写真フイルム株式会社