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J-GLOBAL ID：200903085849685733

縮小投影レンズディストーション評価および補正方法

Inventor： 山下 一博
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993077853
Publication number (International publication number)：1994291015
Application date： Apr. 05, 1993
Publication date： Oct. 18, 1994
Summary：

【要約】【構成】 ホログラフィ法により2光束干渉縞を半導体基板上に露光し、さらに縮小投影露光装置により、半導体基板上にレジストパターンを形成する。ヘテロダインホログラフィ位置検出方法を用いて、投影レンズで焼き付けられたパターン101と2光束干渉縞100との相対位置ずれ量を露光領域内の指定箇所で測定し、縮小投影レンズのディストーションを計測する。【効果】 ホログラフィ法により得られた位置精度の良い2光束干渉縞を絶対位置基準とすることにより、ステージ精度に影響を受けない10nm以下の高精度な縮小投影露光装置のレンズディストーションが計測可能となる。

Claim (excerpt)：

縮小投影露光装置により、可干渉な2光束を半導体基板上に照射することにより2光束干渉縞を前記半導体基板上に露光する工程と、半導体基板上にレジストパターンを形成する工程と、縮小投影露光装置で焼き付けられた前記レジストパターンと前記2光束干渉縞との相対位置ずれ量を露光領域内の指定箇所で測定する工程により、縮小投影レンズのディストーションを計測することを特徴とする縮小投影レンズの評価方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/24 ,  G03F 7/20 521