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J-GLOBAL ID：200903085856595910

汚染媒体の浄化方法およびそれに用いる浄化装置

Inventor： 川口 正浩 ,  栗山 朗 ,  東家 良行 ,  須川 悦子 ,  今村 剛士
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 若林 忠 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998086704
Publication number (International publication number)：1999285684
Application date： Mar. 31, 1998
Publication date： Oct. 19, 1999
Summary：

【要約】【課題】 汚染物質を含む媒体のより一層の浄化を、より一層効率的に行なう方法を提供する。【解決手段】 汚染物質を含む第1の媒体と該汚染物質を分解可能な微生物を含む第2の媒体とを、該汚染物質が透過でき該微生物が透過できない膜を介して接触させる工程を有する汚染媒体の浄化方法であって、該第1の媒体と該第2の媒体とを該膜を介して互いに対向する方向に流動させる。

Claim (excerpt)：

汚染物質を含む第1の媒体と該汚染物質を分解可能な微生物を含む第2の媒体とを、該汚染物質が透過でき該微生物が透過できない膜を介して接触させる工程を有することを特徴とする汚染媒体の浄化方法。

IPC (8)：

B09C 1/10 ZAB ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01D 53/34 ,  B01D 53/81 ,  C02F 3/34 ,  C12N 1/20 ZAB ,  C12N 1/20 ,  C12R 1:01

FI (6)：

B09B 3/00 ZAB E ,  A62D 3/00 ZAB ,  C02F 3/34 Z ,  C12N 1/20 ZAB D ,  C12N 1/20 ZAB F ,  B01D 53/34 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平4-190782
  
• 環境中に放出された汚染物質の生物分解浄化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-159616   Applicant：キヤノン株式会社