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J-GLOBAL ID：200903085897833345

低光散乱蛍光体とその製造方法

Inventor： 浅井 伸利
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 山口 邦夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992258587
Publication number (International publication number)：1994111727
Application date： Sep. 28, 1992
Publication date： Apr. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】蛍光体表面の表面反射を低下させ、高輝度、高コントラストの画像を得ることができる低光散乱蛍光体とその製造方法を提供する。【構成】屈折率をnとする蛍光体の表面に、n1/2あるいはn1/2に近似する値の屈折率n′を有する光透過性材料を被覆してなる。

Claim (excerpt)：

屈折率をnとする蛍光体の表面に、n1/2あるいはn1/2に近似する値の屈折率n′を有する光透過性材料を被覆してなることを特徴とする低光散乱蛍光体。

IPC (2)：

H01J 29/20 ,  C23C 14/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭56-030238
  
• 特開昭59-191237