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J-GLOBAL ID：200903085938886599

加熱装置

Inventor： 村上 嘉彦 ,  渋川 和典 ,  渡辺 剛志
Applicant, Patent owner： 住友大阪セメント株式会社
Agent (1)： 土橋 皓
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999217415
Publication number (International publication number)：2001043957
Application date： Jul. 30, 1999
Publication date： Feb. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】 均熱性に優れ、各種付着物が付着して電気的に短絡するおそれがなく、この付着物をクリーニングするのが容易であり、しかも、所定の発熱量を得るために大電流を流す必要がなく、もって安価な電源回路を使用することが可能な大型の加熱装置を提供することを課題とする。【解決手段】 半径R又は各一辺の長さR4i(i= 1,2,...,n) の円盤状又は多角盤状のヒータエレメントと該ヒータエレメントに電力を供給する複数個の電極とを少なくとも備え、該各電極は、前記ヒータエレメントの中心からの距離R2又は各一辺の長さR5i(i= 1,2,...,n) がR2 ≒ 0.5R又はR5i≒ 0.5R4iである同心円又は多角形と、同じく中心からの距離R3 又は一辺の長さR6i(i= 1,2,...,n) がR3 ≒ 0.95 R又はR6i≒ 0.95 R4iである同心円又は同心かつ相似な多角形とで形成される領域内に、その分布が略均等となるよう配設されたことを特徴とするように構成する。

Claim (excerpt)：

半径R1 の円盤状のヒータエレメントと該ヒータエレメントに電力を供給する複数個の電極とを少なくとも備え、該各電極は、前記ヒータエレメントの中心からの距離R2 がR2 ≒ 0.5R1 である同心円と、同じく前記中心からの距離R3がR3 ≒ 0.95 R1 である同心円とで形成される領域内に、その分布が略均等となるよう配設されたことを特徴とする加熱装置。

IPC (3)：

H05B 3/03 ,  C04B 35/565 ,  H05B 3/14

FI (3)：

H05B 3/03 ,  H05B 3/14 C ,  C04B 35/56 101 Y

F-Term (21)：

3K092PP20 ,  3K092QA05 ,  3K092QB09 ,  3K092QB30 ,  3K092QB74 ,  3K092QC13 ,  3K092QC18 ,  3K092QC31 ,  3K092RF03 ,  3K092RF22 ,  3K092VV06 ,  3K092VV22 ,  3K092VV40 ,  4G001BA22 ,  4G001BB22 ,  4G001BC12 ,  4G001BC13 ,  4G001BC73 ,  4G001BD03 ,  4G001BD22 ,  4G001BE31