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J-GLOBAL ID：200903085964928933

基板の洗浄・乾燥処理方法並びにその処理装置

Inventor： 藤川 和憲
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 間宮 武雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993140086
Publication number (International publication number)：1994326073
Application date： May. 17, 1993
Publication date： Nov. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】 基板を純水で洗浄した後その基板表面を乾燥させる処理において、基板表面へのパーティクルの付着を少なくし、基板を特に加熱したりしなくて基板表面を速やかに乾燥させる。【構成】 純水を洗浄槽12内へその底部から供給しその上部から溢れ出させて洗浄槽内部に純水の上昇水流を形成し、その上昇水流中に基板を浸漬させて洗浄する。洗浄後、基板を純水中から露出させ、その際に水溶性でかつ基板に対する純水の表面張力を低下させる作用を有する有機溶剤の蒸気を基板の周囲へ供給する。その後に、密閉チャンバ16内を排気し基板の周囲を減圧して基板を乾燥させる。

Claim (excerpt)：

洗浄槽内へその底部から純水を連続して供給し洗浄槽の上部からその純水を溢れ出させて洗浄槽内部において純水の上昇水流を形成し、この純水の上昇水流によって基板を洗浄する工程と、前記基板を前記洗浄槽内の純水中から露出させる工程と、前記基板の周囲を減圧して基板を乾燥させる工程とからなり、少なくとも前記した純水中からの基板の露出工程において、水溶性でかつ基板に対する純水の表面張力を低下させる作用を有する有機溶剤の蒸気を前記基板の周囲へ供給するようにする基板の洗浄・乾燥処理方法。

IPC (4)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 341 ,  B08B 3/10 ,  F26B 5/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-080924
  
• 特開平2-291128
  
• 特開平4-354129
  
• 特開昭62-054443