干渉計および形状測定装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：上島淳一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003182958
Publication number (International publication number)：2005017127
Application date： Jun. 26, 2003
Publication date： Jan. 20, 2005
Summary：

【課題】被写界深度を深くとることができるとともに、被検体の表面が傾斜面である場合でも干渉縞をCCDなどの検出手段で検出することができるようにする。【解決手段】複数の光束を出射する光源と、上記光源から出射された複数の光束をビームスプリッターにより2つの光路を通る複数の光束に分割し、上記2つの光路のうちの一方の光路を通る複数の光束を参照面に照射して反射させるとともに、上記2つの光路のうちの他方の光路を通る複数の光束を被検体の表面に集光して反射させる第1の光学系と、上記参照面からの反射光と上記被検体の表面からの反射光とを上記ビームスプリッターにより重ね合わせ、上記2つの反射光の光路差に起因して生ずる干渉縞を生成して検出手段により検出させる第2の光学系とを有し、上記光源と上記被検体の表面および上記参照面が共役であるようにした。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

光源から出射された光束をビームスプリッターにより2つの光路を通る光束に分割し、前記2つの光路のうちの一方の光路を通る光束を参照面に照射して反射させるとともに、前記2つの光路のうちの他方の光路を通る光束を被検体の表面に照射して反射させ、前記参照面からの反射光と前記被検体の表面からの反射光とを前記ビームスプリッターにより重ね合わせ、前記2つの反射光の光路差に起因して生ずる干渉縞を生成して検出手段により検出する干渉計において、複数の光束を出射する光源と、前記光源から出射された複数の光束をビームスプリッターにより2つの光路を通る複数の光束に分割し、前記2つの光路のうちの一方の光路を通る複数の光束を参照面に照射して反射させるとともに、前記2つの光路のうちの他方の光路を通る複数の光束を被検体の表面に集光して反射させる第1の光学系と、前記参照面からの反射光と前記被検体の表面からの反射光とを前記ビームスプリッターにより重ね合わせ、前記2つの反射光の光路差に起因して生ずる干渉縞を生成して検出手段により検出させる第2の光学系とを有し、前記光源と前記被検体の表面および前記参照面が共役であることを特徴とする干渉計。

IPC (2)：

G01B9/02 , G01B11/24

FI (2)：

G01B9/02 , G01B11/24 D

F-Term (31)：

2F064AA09 , 2F064EE01 , 2F064FF01 , 2F064FF08 , 2F064GG02 , 2F064GG12 , 2F064GG22 , 2F064GG38 , 2F064GG41 , 2F064GG44 , 2F064GG47 , 2F064HH03 , 2F064HH08 , 2F065AA51 , 2F065FF52 , 2F065GG04 , 2F065GG25 , 2F065HH13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ09 , 2F065JJ26 , 2F065LL04 , 2F065LL10 , 2F065LL24 , 2F065LL36 , 2F065LL46 , 2F065LL59 , 2F065PP04 , 2F065PP05 , 2F065PP12 , 2F065QQ01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

断層撮影装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-059380 Applicant：株式会社生体光情報研究所
特開昭62-206407
三次元表面形状測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-243304 Applicant：アンリツ株式会社

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