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J-GLOBAL ID：200903085978975616

質量分析計用イオン源

Inventor： 千田 直人 ,  雫石 賢一 ,  高橋 利明 ,  板東 智美
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立計測エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993007341
Publication number (International publication number)：1994213870
Application date： Jan. 20, 1993
Publication date： Aug. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】CFFのコンタミネーションを防止し、かつ長時間安定な動作と液体クロマトグラムから溶出される無極性から高極性物質の高感度測定を可能とすること。【構成】液体クロマトグラム9より流出された試料とマトリックスはスプリッター16でスプリットされ多孔性イオン化台7へ到達し、一次イオンビーム発生器5から照射される一次イオンビーム6によってイオン化し質量分析系1にて質量分散を受ける。この時発生した多孔性イオン化台7上のコンタミネーションは不活性ガス12から供給されヒータ13で温められた溶媒により洗浄される。

Claim (excerpt)：

フリットファブLC/MSイオン源において、移動相溶媒経路または直接多孔材部に、試料等によるコンタミを洗い流すための溶媒を流すことを特徴とした質量分析計用イオン源。

IPC (3)：

G01N 27/62 ,  H01J 49/04 ,  H01J 49/14