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J-GLOBAL ID：200903085997014449

ジアリールエテン系化合物

Inventor： 入江 正浩 ,  角谷 律夫 ,  佐用 浩一 ,  椛澤 誠 ,  堀川 幸雄
Applicant, Patent owner： 鐘紡株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994293788
Publication number (International publication number)：1995179454
Application date： Mar. 13, 1990
Publication date： Jul. 18, 1995
Summary：

【要約】【構成】下記一般式(1)にて示されるジアリールエテン系化合物。【化1】(ただし、式中nは2〜5の整数、A,A’は下記一般式(2)にて示されるものであり、R1 〜R4 は、水素原子,脂肪族炭化水素基,又はシアノ基を表わす。A’,A’は、同一の基でも異なる基でもよい。)【化2】【効果】熱安定性に優れ、かつ発消色の繰り返し耐久性の良好なフォトクロミック性を有し、更に、性能の優れた可逆的光記録材料を得ることができる。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)にて示されるジアリールエテン系化合物。【化1】(ただし、式中nは2〜5の整数、A,A’は下記一般式(2)にて示されるものであり、R1 〜R4 は、水素原子,脂肪族炭化水素基,又はシアノ基を表わす。A’,A’は、同一の基でも異なる基でもよい。)【化2】

IPC (5)：

C07D333/54 ,  C07D333/68 ,  C09K 9/02 ,  G03C 1/73 503 ,  G11B 7/24 516

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平3-261782