Pat

J-GLOBAL ID：200903085997687656

粒子光学装置

Inventor： トロンペナールス,ペートルス ハー エフ ,  ヘンドリクス,ベルナルドゥス ハー ウェー ,  ポリティーク,ヤーレフ
Applicant, Patent owner： フェイ エレクトロン オプティクス ビー ヴィ
Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001531121
Publication number (International publication number)：2003512701
Application date： Oct. 04, 2000
Publication date： Apr. 02, 2003
Summary：

【要約】イオン注入装置、オージェ電子分光計、XPS分析装置などの粒子光学装置を、装置の中に持ち込まれるウェーハ又は基板を放射により衝撃して少なくとも正に帯電したウェーハ又は基板の表層を与えることが可能な放射源とともに提供する。その装置はさらに、二次電子の放出を提供する手段、及び二次電子を輸送する為の輸送手段を伴う電荷中和装置を含む。この輸送手段の装置は、二次電子の放出に基いて制御される電子輸送のための中空隔離構造、特に入口及び出口において電極を伴う電子ファイバーの形態、と共に提供される。電子ファイバーの出口は、純粋な二次電子源を形成する。

Claim (excerpt)：

イオン注入装置、オージェ電子分光計、XPS分析装置などの粒子光学装置であって、 該粒子光学装置の中に持ち込まれるウェーハ又は基板を放射により衝撃して少なくとも正に帯電した前記ウェーハ又は基板の表層を提供することが可能である放射源を有し、 前記粒子光学装置は、さらに二次電子の放出を提供する手段、及び該二次電子を輸送する為の輸送手段を伴う電荷中和装置を含み、 前記電荷中和装置は、前記二次電子の放出に基いて制御される電子輸送の為の中空隔離構造と共に提供される ことを特徴とする粒子光学装置。

IPC (4)：

H01J 37/20 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/265 603

FI (4)：

H01J 37/20 H ,  H01J 37/317 Z ,  H01L 21/265 603 C ,  H01L 21/265 N

F-Term (4)：

5C001CC07 ,  5C034CC07 ,  5C034CC13 ,  5C034CC19