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J-GLOBAL ID:200903086000178702
イオン電解質材料
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
安富 康男
, 玉井 敬憲
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003056178
Publication number (International publication number):2004265785
Application date: Mar. 03, 2003
Publication date: Sep. 24, 2004
Summary:
【課題】イオン伝導性に優れ、高電位において電気化学的に安定であり、しかも充放電を繰り返しても電気容量の低下を抑えることが可能である、電気化学特性に優れるイオン電解質材料を提供する。【解決手段】アルカリ金属塩及び/又はアルカリ土類金属塩、下記一般式(1);Rf3B (1)(式中、Rfは、同一若しくは異なって、フッ化アリール基又はフッ化フェノキシ基を表す。)で表される化合物、並びに、下記一般式(2);RfnBX3-n (2)(式中、Rfは、同一若しくは異なって、フッ化アリール基又はフッ化フェノキシ基を表す。Xは、同一若しくは異なって、ハロゲン原子、水酸基又は脂肪族アルコキシ基を表す。nは、1〜2の整数を表す。)及び/又は下記一般式(3);【化1】(式中、Rfは、同一若しくは異なって、フッ化アリール基又はフッ化フェノキシ基を表す。Y1及びY2は、それぞれ独立に有機基を表し、直接又は酸素原子若しくはホウ素原子を介して結合していてもよい。mは、1以上の整数を表す。)で表される化合物を含有してなるイオン電解質材料。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
アルカリ金属塩及び/又はアルカリ土類金属塩、下記一般式(1);
Rf3B (1)
(式中、Rfは、同一若しくは異なって、フッ化アリール基又はフッ化フェノキシ基を表す。)で表される化合物、並びに、下記一般式(2);
RfnBX3-n (2)
(式中、Rfは、同一若しくは異なって、フッ化アリール基又はフッ化フェノキシ基を表す。Xは、同一若しくは異なって、ハロゲン原子、水酸基又は脂肪族アルコキシ基を表す。nは、1〜2の整数を表す。)及び/又は下記一般式(3);
IPC (3):
H01M10/40
, H01B1/06
, H01G9/038
FI (4):
H01M10/40 B
, H01B1/06 A
, H01G9/00 301D
, H01G9/02 311
F-Term (8):
5G301CA04
, 5G301CD01
, 5H029AJ05
, 5H029AJ06
, 5H029AM07
, 5H029AM16
, 5H029DJ09
, 5H029HJ02
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