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J-GLOBAL ID：200903086000856336

洗浄器具及び半導体ウェーハ洗浄装置並びに半導体ウェーハの洗浄方法

Inventor： 高安 淳
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 外川 英明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998157097
Publication number (International publication number)：1999347499
Application date： Jun. 05, 1998
Publication date： Dec. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ウェーハの凹部パターンに残ったエッチング残さ(反応生成物)や研磨粒子等の除去性を向上させることを目的とする。【解決手段】 本願発明にかかる洗浄器具は、表面が高分子繊維12からなり、かつ、表面に所定の溝13を有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

表面が高分子繊維からなり、かつ、表面に所定の溝を有する洗浄器具。

IPC (4)：

B08B 1/04 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304 644 ,  H01L 21/304

FI (4)：

B08B 1/04 ,  H01L 21/304 622 Q ,  H01L 21/304 644 C ,  H01L 21/304 644 G