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J-GLOBAL ID：200903086017467872

磁気抵抗効果型ヘツドの製造方法

Inventor： ▲高▼野 公史 ,  鈴木 幹夫 ,  森脇 英稔 ,  由比藤 勇 ,  小山 直樹 ,  北田 正弘 ,  中谷 亮一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991227818
Publication number (International publication number)：1993067314
Application date： Sep. 09, 1991
Publication date： Mar. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】磁気抵抗効果型ヘッドの再生特性の安定化。【構成】磁気抵抗効果素子12上の少なくとも一部に交換結合膜13が形成されている磁気抵抗効果型ヘッドを、交換結合膜13を形成した後に磁気抵抗効果素子12の磁化容易方向と同一方向の外部磁界を印加しながら交換結合膜13のネール点以上に加熱する。【効果】再生波形歪のない磁気抵抗効果型ヘッドを実現することができる。

Claim (excerpt)：

磁気抵抗効果素子上の少なくとも一部に磁気抵抗効果素子との間で磁気的な交換結合を引き起こす反強磁性膜が形成されている磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、前記反強磁性膜が形成された後、前記磁気抵抗効果素子の磁化容易方向と同一方向の外部磁界を印加した状態で前記反強磁性膜のキュリー点以上の温度まで一度昇温した後、室温まで徐々に冷却することを特徴とする磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法。