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J-GLOBAL ID：200903086025757901
真空排気システム直結型真空処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
亀谷 美明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994053169
Publication number (International publication number)：1995240382
Application date： Feb. 25, 1994
Publication date： Sep. 12, 1995
Summary：
【要約】【目的】 装置間の排気性能差が生じにくい真空処理装置用真空排気システムを提供する。【構成】 本発明によれば、処理ガス供給系(I)と処理ガス排気系(O)とを備えた処理装置1の処理ガス排気系の真空排気装置を主排気ポンプ11と補助排気ポンプ10,10’とから構成し、その補助排気ポンプを前記処理室と同室内に設け、その主排気ポンプを前記処理室と別室に設けているので、補助排気ポンプと処理装置との一体設計が可能であるとともに、主排気ポンプの設置の自由度を増すことができる。さらに補助排気ポンプの背圧を主排気ポンプで調整できるので、補助排気ポンプの小型化を図れる。特に前記処理室と前記補助排気ポンプとを結ぶ排気管のコンダクタンスを一定にすることで、装置間の排気性能格差を軽減し、製品の均質化が図れ、プロセスの安定性および信頼性を増すことができる。
Claim (excerpt)：
処理ガス供給系と処理ガス排気系とを備えた処理室内で処理ガスにより被処理体を処理するための真空処理装置において、前記処理ガス排気系の真空排気装置を主排気ポンプと補助排気ポンプとから構成し、その補助排気ポンプを前記処理室と同室内に設け、その主排気ポンプを前記処理室と別室に設けたことを特徴とする、真空排気システム直結型真空処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/205
, C23C 16/44
, C23C 16/54
