デバイスの製造方法及び観察方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：作田康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003332657
Publication number (International publication number)：2005100526
Application date： Sep. 25, 2003
Publication date： Apr. 14, 2005
Summary：

【課題】光や電子線を用いた加工では、レジストに吸収されたフォトンや電子の総量で反応性が決まるため、微細加工ができなかった。一方、熱記録が提案されているが、熱記録も記録する光や電子線のスポットサイズによって加工サイズの微小化に限界があった。【解決手段】相変化光ディスクに用いられる記録膜の結晶のみを、アルカリ溶液又は純水を用いて溶解又は剥離することによってアモルファス部分のみを残すことにより、結晶とアモルファスのパターンを凹凸パターンに変換する。【効果】高再現性で微細凹凸パターンを作製することが可能となる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

結晶領域と、アモルファス領域とを有するデバイスに対し、前記結晶領域と前記アモルファス領域の何れか一方を選択的に除去することにより、凹凸形状を形成することを特徴とするデバイスの製造方法。

IPC (2)：

G11B7/26 , G11B7/24

FI (3)：

G11B7/26 501 , G11B7/24 511 , G11B7/24 535D

F-Term (10)：

5D029JA01 , 5D029LC18 , 5D121AA02 , 5D121BA03 , 5D121BA05 , 5D121BB14 , 5D121BB21 , 5D121BB28 , 5D121BB31 , 5D121GG16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開昭60-045956
特開昭52-028268
特表平4-506430

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