低温プラズマを用いるガス中の総有機炭素のガス分析方法及びその装置

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004071786
Publication number (International publication number)：2005257572
Application date： Mar. 12, 2004
Publication date： Sep. 22, 2005
Summary：

【課題】分析ガス中に含まれる総有機炭素物質を計測する際、常温において測定可能な方法及び装置を提供する。【解決手段】有機炭素を含むガスを、酸素雰囲気下に金属を担持した触媒の存在する系内で低温プラズマ処理してガス中の総有機炭素量を計測するガス分析方法である。また、有機炭素を含むガスを反応器に供給する手段と、酸素を反応器に供給する手段と、金属を担持した触媒を充填した低温プラズマ反応器と、反応器に電圧を印加する高電圧電源と、CO2の計測装置と、低温プラズマ反応器で分解処理されたガスを放出する手段とを備えたガス分析装置である。この方法及び装置は、低温プラズマと触媒の併用して有機炭素を常温・常圧で酸化するものであるため、装置に耐熱構造が必要なく触媒層の余熱も必要としない簡単な方法及び装置である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

有機炭素を含むガスを、酸素雰囲気下に金属を担持した触媒の存在する系内で低温プラズマ処理してガス中の総有機炭素量を計測することを特徴とするガス分析方法。

IPC (3)：

G01N31/00 , G01N31/10 , G01N31/12

FI (4)：

G01N31/00 D , G01N31/00 Y , G01N31/10 , G01N31/12 A

F-Term (12)：

2G042AA01 , 2G042BA03 , 2G042CB01 , 2G042DA04 , 2G042FA07 , 2G042FA16 , 2G042FB01 , 2G042FB04 , 2G042GA04 , 2G042GA10 , 2G042HA02 , 2G042HA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

ガス検出装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-145359 Applicant：ダイキン工業株式会社
フロン類の分解方法および分解装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-147861 Applicant：樫山工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

静電気学会講演論文集, 2002, Vol.2002, Page.83-86
環境保全研究成果集, 2002, Vol.2000, No.1, Page.33.1-33.38
電気学会プラズマ研究会資料, 1994, Vol.EP-94, No.64-69, Page.29-38

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