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J-GLOBAL ID：200903086081073209

テラヘルツ光供給光学系、テラヘルツ光検出光学系、及びこれを用いたテラヘルツ光装置

Inventor： 赤堀 洋道 ,  岩本 敏志
Applicant, Patent owner： 株式会社栃木ニコン ,  株式会社ニコン
Agent (1)： 四宮 通
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001327025
Publication number (International publication number)：2003131137
Application date： Oct. 24, 2001
Publication date： May. 08, 2003
Summary：

【要約】【課題】 平行光束として供給するテラヘルツ光の利用効率を高める。【解決手段】 テラヘルツ光発生部2は、放射強度に指向性を有する発散光束のテラヘルツ光を発生する。軸外し放物面鏡1は、発生部2から発生したテラヘルツ光を反射面1aで反射して、平行光束にして外部に供給する。前記発散光束の発散中心点が、軸外し放物面鏡1の焦点Sに位置する。前記発散光束のうち放射強度の最も高い方向に向かう基準光線が、線分SHに沿って進行するように、発生部2がXY平面内で傾けられる。反射面1aのテラヘルツ光入射領域の周縁とXY平面とが交わる2つの点B,Dにそれぞれ到達する2本の光線のうちの一方の光線と前記基準光線とがXY平面内においてなす角度θ3の絶対値と、他方の光線と前記基準光線とがXY平面内においてなす角度θ4の絶対値とが、等しい。

Claim (excerpt)：

放射強度に指向性を有する発散光束のテラヘルツ光を発生するテラヘルツ光発生部と、軸外し放物面鏡とを備え、前記テラヘルツ光発生部から発生したテラヘルツ光を実質的に平行光束にして供給するテラヘルツ光供給光学系において、(a)前記発散光束の発散中心点が、前記軸外し放物面鏡の焦点の付近又は前記焦点と光学的に等価な位置の付近に位置すること、(b)前記発散光束のうち前記放射強度の最も高い方向に向かう基準光線が、少なくとも前記軸外し放物面鏡の回転放物面をなす反射面の付近で、前記反射面を規定する回転軸を含む所定の基準面内に実質的に含まれること、及び、(c)前記反射面のテラヘルツ光入射領域の周縁と前記基準面とが交わる2つの点にそれぞれ到達する前記発散光束に含まれる2本の光線のうちの一方の光線と前記基準光線とが、少なくとも前記反射面の付近で、前記基準面内においてなす角度の絶対値と、前記2本の光線のうちの他方の光線と前記基準光線とが、少なくとも前記反射面の付近で、前記基準面内においてなす角度の絶対値とが、略等しいこと、の各条件を満たすように、前記テラヘルツ光発生部と前記軸外し放物面鏡との光学的な位置関係が設定されたことを特徴とするテラヘルツ光供給光学系。

IPC (5)：

G02B 17/08 ,  G02B 13/14 ,  G02B 13/18 ,  G02B 26/00 ,  H01S 3/00

FI (5)：

G02B 17/08 Z ,  G02B 13/14 ,  G02B 13/18 ,  G02B 26/00 ,  H01S 3/00 F

F-Term (16)：

2H041AA23 ,  2H041AB14 ,  2H041AZ00 ,  2H041AZ05 ,  2H087KA12 ,  2H087NA04 ,  2H087NA05 ,  2H087RA04 ,  2H087TA01 ,  2H087TA03 ,  2H087TA04 ,  2H087TA06 ,  5F072JJ20 ,  5F072RR10 ,  5F072SS08 ,  5F072YY20