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J-GLOBAL ID：200903086091458192

解探索装置

Inventor： 高津 和典
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 植本 雅治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992323586
Publication number (International publication number)：1994149866
Application date： Nov. 09, 1992
Publication date： May. 31, 1994
Summary：

【要約】【目的】 最適解を効率的にかつ信頼性良く探索することが可能である。【構成】 探索空間に所定分布をもつサンプル集団を初期発生させる初期分布生成部1と、発生させたサンプルに対して目的関数のとる値を評価値として求め、サンプルの分布を評価値によって重み付けするサンプル評価部2と、重み付けを行なったサンプルの分布の近似を行なう分布近似部3と、分布近似部3によって得られた分布の近似関数を用いて新たなサンプルを少なくとも1つ発生させ、これをサンプル評価部2に再び与えるサンプル発生部4とを有し、サンプル評価部2,分布近似部3,サンプル発生部4における処理が繰り返し行なわれることにより、所定の問題に対する最適解が探索される。

Claim (excerpt)：

探索空間に所定分布をもつサンプル集団を初期発生させる初期分布生成手段と、発生させたサンプルに対して目的関数のとる値を評価値として求め、サンプルの分布を評価値によって重み付けし、重み付けを行なったサンプルの分布の近似を行なう評価近似手段と、評価近似手段によって得られた分布の近似関数を用いて新たなサンプルを少なくとも1つ発生させ、これを前記評価近似手段に再び与えるサンプル発生手段とを有し、評価近似手段とサンプル発生手段とにおける処理が繰り返し行なわれることにより、所定の問題に対する最適解が探索されるようになっていることを特徴とする解探索装置。

IPC (2)：

G06F 15/353 ,  G06F 15/18