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J-GLOBAL ID：200903086094274467

高電導性の透明導電膜の製造方法

Inventor： 大籏 英樹 ,  加藤 順也 ,  白根 浩朗 ,  井上 長三
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (1)： 矢口 平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997027813
Publication number (International publication number)：1998226535
Application date： Feb. 12, 1997
Publication date： Aug. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ゾルゲル法により低温において高電導性の透明導電膜を製造する方法を提供する。【解決手段】 インジウムアルコキシドと錫アルコキシドと有機配位子と有機溶媒とを混合・撹拌して溶液を調製し、この溶液に水を添加し反応を行わせ、添加水量及び反応時間を制御してゾル形成し、このゾル溶液を基板上に塗布させた後、紫外線を照射して高電導性の透明導電膜を製造する。

Claim (excerpt)：

インジウムアルコキシドと錫アルコキシドと有機配位子と有機溶媒とを混合・撹拌して溶液を調製し、この溶液に水を添加し反応を行わせ、添加水量及び反応時間を制御してゾル形成し、このゾル溶液を基板上に塗布させた後、紫外線を照射することを特徴とする表面電気抵抗値が5×103 Ω/□以下の高電導性の透明導電膜の製造方法。

IPC (3)：

C03C 17/25 ,  C01G 19/00 ,  H01B 13/00 503

FI (3)：

C03C 17/25 A ,  C01G 19/00 A ,  H01B 13/00 503 C