Pat

J-GLOBAL ID：200903086098409774

パルスガスレーザ発振装置、レーザアニール装置、半導体装置の製造方法、及び半導体装置

Inventor： 角野 努 ,  柿崎 弘司
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996164586
Publication number (International publication number)：1998012549
Application date： Jun. 25, 1996
Publication date： Jan. 16, 1998
Summary：

【要約】【課題】レーザパルス光の光強度波形が変化することなく、安定した発振を連続して行なう。【解決手段】レーザ発振装置11と、発振された光をアニール対象となるガラス基板18に照射するビームホモジナイザ14、ミラー15及び石英窓17を備えたプロセスチャンバ16と、上記発振された光の時間軸に対する強度波形を取得するミラー13、光波形検出器19及び電流/電圧変換器20と、取得した光の強度波形の変化を検出する光波形ピーク検出回路21と、光波形ピーク検出回路21で検出したピーク値により上記レーザ発振装置11にガスを注入するハロゲン注入部23へガスの量を指示制御する制御部22とを備える。

Claim (excerpt)：

励起ガスを封入する容器と、この容器内に相対向して設けられた一対の主放電電極と、これら主放電電極に対して配置された複数対の予備電離電極と、これら予備電離電極間の電力を充放電する充放電回路と、この充放電回路に電力を供給する電源と、上記充放電回路から上記予備電離電極の放電による電力を蓄電する複数の蓄電手段と、上記主放電電極で発生した光を増幅する光共振器と、この光共振器から出力されたパルスレーザ光の光エネルギの経時変化を得る光エネルギ採取手段と、この光エネルギ採取手段で得られた上記光エネルギの経時変化で得られる極大値の推移を上記パルスレーザ光の各パルス毎に検出する検出手段と、この検出手段により複数の上記極大値同士の比を求めこの比が所定値を上回ったときに、上記容器内に注入する励起ガスの量あるいは上記電源から充放電回路に供給される電圧値の少なくとも一方を制御する第1の制御手段とを具備したことを特徴とするパルスガスレーザ発振装置。

IPC (3)：

H01L 21/20 ,  G01J 1/02 ,  H01L 21/268

FI (3)：

H01L 21/20 ,  G01J 1/02 K ,  H01L 21/268 Z