Pat

J-GLOBAL ID：200903086115444546

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 上西 一也 ,  丹 史郎 ,  藤森 亨 ,  児玉 邦彦 ,  白川 浩司
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999336369
Publication number (International publication number)：2001075284
Application date： Nov. 26, 1999
Publication date： Mar. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】 高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができしかもPCD、PED安定性に優れたポジ型電子線又はX線レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 放射線の照射により酸を発生する化合物、及びカチオン重合性の機能を有する化合物を含有するポジ型電子線又はX線レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(a)放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(b)カチオン重合性の機能を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (15)：

2H025AA03 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BC12 ,  2H025BC17 ,  2H025BC23 ,  2H025BC37 ,  2H025BC38 ,  2H025BC49 ,  2H025BC83 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025CA48 ,  2H025FA12