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J-GLOBAL ID:200903086117292948

炭化水素処理用触媒の細孔内への硫黄の組込み方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岸本 瑛之助 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997005156
Publication number (International publication number):1997192505
Application date: Jan. 16, 1997
Publication date: Jul. 29, 1997
Summary:
【要約】【課題】 炭化水素処理用触媒の細孔内へ硫黄を高い硫化率で組込む方法を提供する。【解決手段】 本発明は、元素周期表の第VI族または第VIII族の少なくとも1つの金属を含む、炭化水素の転換用触媒の細孔への硫黄の組込み方法であって、現場外で、水素の存在下および硫黄または硫黄含有化合物の存在下に実施される方法である。この方法は、好ましくは、現場外で、2工程で実施され、第一工程は、元素状硫黄および/または、(硫化水素とは異なる)硫黄化合物を、水素の不存在下に触媒物質と混合することから成り、第二工程は、第一工程の間に硫黄が組込まれて存在している触媒物質と水素とを接触させることから成り、まず硫化水素の形成を引起こし、ついで触媒の金属酸化物と、生じる硫化水素との反応を引起こすようにする。
Claim (excerpt):
元素周期表の第VI族または第VIII族の少なくとも1つの金属を含む、炭化水素の転換用触媒の細孔への硫黄の組込み方法であって、現場外で、水素の存在下および硫黄または硫黄化合物の存在下に実施される方法。
IPC (4):
B01J 37/20 ,  B01J 27/047 ,  C10G 45/08 ,  C10G 47/06
FI (4):
B01J 37/20 ,  B01J 27/047 M ,  C10G 45/08 B ,  C10G 47/06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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