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J-GLOBAL ID：200903086128031321

基板洗浄装置及び基板洗浄治具

Inventor： 佐原 輝隆 ,  末松 孝章
Applicant, Patent owner： 日立プラント建設株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001391075
Publication number (International publication number)：2003190901
Application date： Dec. 25, 2001
Publication date： Jul. 08, 2003
Summary：

【要約】【課題】 基板の洗浄不良を解消することが可能な基板洗浄装置の提供を目的とする。【解決手段】 基板1を洗浄する複数の洗浄槽10,20を有し、各洗浄槽10,20に基板1の支持部材12,13,22を設け、各支持部材12,13,22の表面に基板1の端部と係合する溝部を形成し、各洗浄槽10,20のうち、一の洗浄槽において溝部と係合する基板1の端部が、他のいずれかの洗浄槽において溝部と係合しないように、各支持部材12,13,22の溝部を配置するとともに、溝部の表面から窒素ガスを噴出可能とした構成とした。

Claim (excerpt)：

基板を順次浸漬して洗浄する複数の洗浄槽を有し、前記各洗浄槽内に前記基板の支持部材を設け、前記各支持部材の表面に前記基板の端部と係合する溝部を形成し、前記各洗浄槽のうち、一の洗浄槽において前記溝部と係合する前記基板の端部が、他のいずれかの洗浄槽において前記溝部と係合しないように、前記各支持部材の溝部を配置したことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (6)：

B08B 11/02 ,  B08B 3/04 ,  B08B 3/10 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 648

FI (6)：

B08B 11/02 ,  B08B 3/04 Z ,  B08B 3/10 Z ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/304 642 B ,  H01L 21/304 648 Z

F-Term (20)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB01 ,  3B116AB42 ,  3B116BB02 ,  3B116BB83 ,  3B116CD22 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB42 ,  3B201BB02 ,  3B201BB83 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201BB99 ,  3B201CD22