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J-GLOBAL ID：200903086153742534

潤滑剤塗布装置および画像形成装置

Inventor：
高垣 博光

About 高垣 博光


Applicant, Patent owner：
株式会社リコー

About 株式会社リコー


Agent (1)： 樺山 亨 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000153196
Publication number (International publication number)：2001337558
Application date： May. 24, 2000
Publication date： Dec. 07, 2001
Summary：
【要約】【課題】 画像面積比率の大小画像に関係なく、像担持体に対する潤滑剤塗布手段内に混入したままの現像剤を排除することにより像担持体に対する潤滑剤の塗布量にアンバランスな状態が発生しないようにして像担持体での静止摩擦係数のばらつきを抑えることができる構成を備えた潤滑剤塗布装置を提供する。【解決手段】 画像を表面に担持する像担持体2に対して該像担持体表面の摩擦係数を低減する潤滑剤20を塗布する手段8Aを備えた潤滑剤塗布装置1において、上記像担持体2に向けて移動する上記潤滑剤塗布手段8Aの移動方向で上記潤滑剤塗布手段8Aと上記像担持体2との接触位置の上流側に潤滑剤20を配置し、該潤滑剤20の配置位置よりもさらに上流側に上記潤滑剤塗布手段8A中に混入している現像剤を排出する手段21を設け、上記潤滑剤塗布手段8Aが上記排出手段21に接触した後上記潤滑剤20に接触することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
画像を表面に担持する像担持体に対して該像担持体表面の摩擦係数を低減する潤滑剤を塗布する手段を備えた潤滑剤塗布装置において、上記像担持体に向けて移動する上記潤滑剤塗布手段の移動方向で上記潤滑剤塗布手段と上記像担持体との接触位置の上流側に潤滑剤を配置し、該潤滑剤の配置位置よりもさらに上流側に上記潤滑剤塗布手段中に混入している現像剤を排出する手段を設け、上記潤滑剤塗布手段が上記排出手段に接触した後上記潤滑剤に接触することを特徴とする潤滑剤塗布装置。
IPC (3)：
G03G 21/00 ,  C10M107/38 ,  C10N 40:06
FI (3)：
G03G 21/00 ,  C10M107/38 ,  C10N 40:06
F-Term (4)：
2H034AA07 ,  4H104CD02A ,  4H104PA04 ,  4H104RA01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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