高周波加熱装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：滝本智之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998077076
Publication number (International publication number)：1999270857
Application date： Mar. 25, 1998
Publication date： Oct. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は高周波加熱装置に関するもので、マイクロ波を被加熱物に照射するとき、均一に加熱することを課題とする。【解決手段】加熱室14と電磁波発生手段11と被加熱物15と被加熱物支持台16から構成してある。被加熱物支持台16は一部が電磁波吸収体17となっている。従って、被加熱物15だけでなく被加熱物支持台16の電磁波吸収体17にも電磁波が吸収され、その電磁波のエネルギーが被加熱物15の温度上昇の低い部分へ伝導されることにより、加熱の不均一さを低減することができる。

Claim (excerpt)：

電導体で囲まれた加熱室と、前記加熱室に電磁波を供給するための電磁波発生手段と、前記電磁波発生手段から放射させる電磁波を前記加熱室に導く導波管と、前記加熱室と前記導波管との接続部に設けられた前記加熱室への開口部と、一部が電磁波吸収体となっている被加熱物を載置する被加熱物支持台とからなる高周波加熱装置。

IPC (2)：

F24C 7/02 511 , H05B 6/74

FI (2)：

F24C 7/02 511 C , H05B 6/74 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

マイクロ波解凍加熱装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-028531 Applicant：新日本無線株式会社
マイクロ波加熱用の試料保持平板加熱体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-187994 Applicant：スズキ株式会社
高周波加熱装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-065016 Applicant：松下電器産業株式会社

Show all

Return to Previous Page