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J-GLOBAL ID：200903086199258319

レーザマーキング方法および装置

Inventor： 津田 幸宏 ,  山崎 卓 ,  森 彰
Applicant, Patent owner： 株式会社小松製作所
Agent (1)： 橋爪 良彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993034419
Publication number (International publication number)：1994226476
Application date： Jan. 29, 1993
Publication date： Aug. 16, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ワークへのレーザマーキングを行うに際し、刻印マークをマスクに分割表示させてマーキングを行う場合に特に有効で、刻印精度を向上させるとともに、分割合成による刻印作業を簡易に行わせる。【構成】 マーキングパターンを表示可能なマスクにレーザ発振器からのレーザ光を第1偏向器により走査させてレーザ光を選択透過させた後、当該マスクの透過光を第2偏向器により偏向してワーク表面にマーキング照射するレーザマーキングする際、マスクには前記第1偏向器による1走査ラインに相当する分割パターンを順次連続して表示させ、第1偏向器による各分割パターンの1走査透過光毎に前記第2偏向器によるワーク表面への偏向位置をパターン分割方向に移動させてパターン合成刻印をなすようにした。

Claim (excerpt)：

マーキングパターンを表示可能なマスクにレーザ発振器からのレーザ光を第1偏向器により走査させてレーザ光を選択透過させた後、当該マスクの透過光を第2偏向器により偏向してワーク表面にマーキング照射するレーザマーキング方法において、前記マスクには前記第1偏向器による1走査ラインに相当する分割パターンを順次連続して表示させ、第1偏向器による各分割パターンの1走査透過光毎に前記第2偏向器によるワーク表面への偏向位置をパターン分割方向に移動させてパターン合成刻印をなすことを特徴とするレーザマーキング方法。

IPC (6)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08 ,  B41J 2/44 ,  G02F 1/13 505 ,  H01S 3/101