セラミツク表面への金属膜形成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松本武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991243842
Publication number (International publication number)：1993078185
Application date： Sep. 24, 1991
Publication date： Mar. 30, 1993
Summary：

【要約】【目的】セラミック表面に粗化や下地層を施さずに金属膜を高い密着力で形成することのできる方法を提供する。【構成】非酸化性雰囲気中でセラミック表面に対し分解処理および/または還元処理を施すことにより、前記セラミック表面を金属原子に富む状態にしておいて、このセラミック表面に金属膜を形成するようにする。

Claim (excerpt)：

非酸化性雰囲気中でセラミック表面に対し分解処理および/または還元処理を施すことにより、前記セラミック表面を金属原子に富む状態にしておいて、このセラミック表面に金属膜を形成するようにするセラミック表面への金属膜形成方法。

IPC (4)：

C04B 41/88 , B01J 19/08 , C23C 14/02 , C23C 16/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開昭63-139073
特開昭62-270479
特開昭59-018184

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